grinding-polishing-and-welding

Gas ekzos daripada bengkel pengisaran, penggilap dan kimpalan mempunyai komposisi yang kompleks, termasuk habuk (zarah logam dan bukan logam), asap kimpalan (oksida logam, gas berbahaya seperti ozon dan nitrogen oksida), dan sejumlah kecil VOC (seperti meruap penyejuk). Oleh itu, proses rawatan mesti direka untuk menangani keperluan dwi "penyingkiran habuk dan penyahgas." Proses biasa adalah seperti berikut:

I. Peringkat Prarawatan (untuk habuk dan zarah besar)

1. Sistem Pengumpulan Gas

Lengan sedutan satu arah, tudung sisi atau tudung atas yang dipasang di dalam bengkel menangkap dengan tepat gas ekzos yang dijana oleh stesen pengisaran/kimpalan (terutama asap kimpalan, yang mempunyai julat resapan yang sempit dan memerlukan pengumpulan rapat). Ekzos kemudian disalurkan ke sistem rawatan.

2. Penyingkiran Debu Utama

Jika kepekatan habuk adalah tinggi (seperti semasa proses pengisaran), ia mula-mula dikeluarkan melalui pengumpul habuk siklon atau pemisah inersia untuk mengeluarkan zarah besar ≥10μm, mengurangkan beban pada peralatan berikutnya.

Jika kepekatan utama adalah zarah halus (seperti wasap kimpalan), ekzos boleh terus dipindahkan ke peringkat seterusnya.

II. Peringkat Pembersihan Dalam (Menyasarkan Zarah Halus dan Gas Berbahaya)
3. Penyingkiran Habuk Berkecekapan Tinggi
- Peralatan Teras: Pengumpul Habuk Kartrij (sesuai untuk habuk logam, kecekapan penapisan ≥99%) atau Pengumpul Habuk Beg (sesuai untuk habuk suhu tinggi, dengan rintangan suhu yang lebih baik) untuk mengeluarkan bahan zarahan halus ≤1μm (seperti aerosol logam dalam asap kimpalan).
4. Rawatan Gas Berbahaya
- Jika ekzos mengandungi nitrogen oksida dan ozon yang dijana melalui kimpalan, atau sejumlah kecil VOC yang dikeluarkan oleh penyejuk, ruang penjerapan karbon teraktif (untuk menyerap komponen organik) atau penulen fotolisis UV/plasma (untuk menguraikan ozon dan VOC molekul kecil) mungkin diperlukan.
- Jika gas ekzos mengandungi komponen berasid (seperti gas pengoksidaan semasa kimpalan), menara semburan (untuk meneutralkan dengan larutan alkali) boleh ditambah.

III. Peringkat Pelepasan
5. Kipas dan Cerobong
Gas yang telah disucikan diangkat oleh kipas draf teraruh ke nyahcas altitud tinggi (ketinggian cerobong mesti memenuhi keperluan perlindungan alam sekitar setempat) untuk memastikan kepekatan pelepasan memenuhi piawaian (cth., bahan zarahan ≤10mg/m³, VOC ≤50mg/m³).

Perkara Utama Reka Bentuk
- Rawatan Zon: Ciri-ciri gas ekzos bagi kawasan pengisaran dan kimpalan berbeza (pengisaran menghasilkan tahap habuk yang tinggi, manakala asap kimpalan adalah halus dan mengandungi gas). Sistem pengumpulan gas yang berasingan boleh dipasang, membenarkan rawatan gabungan untuk meningkatkan kecekapan yang disasarkan.
- Keserasian Peralatan: Pilih spesifikasi peralatan berdasarkan isipadu udara bengkel (cth., 1000-5000 m³/j, bergantung pada saiz bengkel) untuk memastikan halaju udara yang sesuai (untuk mengelakkan habuk mendap atau penjerapan yang tidak mencukupi).
- Penyelenggaraan Tetap: Kartrij dan beg penapis memerlukan pembersihan atau penggantian biasa, dan karbon teraktif harus diganti dengan segera untuk mengelakkan tepu dan memastikan kecekapan rawatan jangka panjang.

Proses ini, melalui proses rawatan berperingkat "penyingkiran habuk dahulu, penyingkiran gas kedua", membersihkan gas ekzos bengkel dengan berkesan, memenuhi keperluan pelepasan alam sekitar sambil menambah baik persekitaran kerja bengkel.