dustladen-exhaust-gas

- Komponen utama: Pelbagai jenis bahan zarahan, termasuk habuk (seperti habuk simen dan habuk arang batu), asap, titisan kabus, dsb.
- Sumber: Perlombongan, pengeluaran bahan binaan, pembakaran dandang, peleburan logam dan proses lain.

Peralatan rawatan gas ekzos sarat habuk digunakan terutamanya untuk memisahkan bahan zarah pepejal daripada gas ekzos. Peralatan biasa termasuk yang berikut:

Ruang Mendap Graviti
- Prinsip: Menggunakan graviti untuk mengendap habuk secara semula jadi. Selepas gas ekzos yang sarat dengan habuk memasuki ruang pengendapan, kadar aliran berkurangan, dan zarah habuk besar secara beransur-ansur jatuh ke bahagian bawah ruang di bawah tindakan graviti, mencapai pemisahan.
- Aplikasi: Sesuai untuk merawat habuk dengan saiz zarah yang besar (biasanya lebih besar daripada 50μm) dan ketumpatan tinggi, seperti habuk kasar yang dihasilkan dalam penghancuran dan tuangan bijih. Ia mempunyai struktur mudah dan kos rendah, tetapi kecekapan penulenan rendah, dan biasanya digunakan sebagai peralatan pra-rawatan.

Pengumpul Habuk Taufan
- Prinsip: Selepas memasuki pengumpul habuk, gas ekzos sarat habuk berputar di sepanjang dinding silinder, menghasilkan daya emparan yang membuang habuk ke arah dinding silinder. Habuk kemudian jatuh ke dalam corong di bawah tindakan graviti, dan gas yang telah dimurnikan dilepaskan melalui tiub pusat.
- Aplikasi: Sesuai untuk merawat habuk tidak berserabut, tidak melekit dengan saiz zarah 5-20μm, seperti gas serombong dandang dan habuk daripada pengeluaran simen. Struktur padat, penggunaan tenaga yang rendah, dan kecekapan penulenan sederhana (biasanya 70%-90%), ia sering digunakan sebagai peralatan perantaraan atau pra-rawatan.

Pengumpul Habuk Beg
- Prinsip: Menggunakan tindakan penapisan beg penuras (seperti felt jarum atau kanvas), habuk terperangkap pada permukaan beg apabila gas ekzos sarat habuk melalui beg, dan gas yang telah disucikan dilepaskan. Habuk dikeluarkan dari beg dengan kerap menggunakan alat pembersih (seperti pancutan nadi atau getaran mekanikal).
- Aplikasi: Sangat cekap (sehingga 99% atau lebih) untuk habuk halus (saiz zarah 0.1-10μm), ia sesuai untuk pelbagai proses penyingkiran habuk industri, seperti dalam industri metalurgi, kimia dan kuasa. Walau bagaimanapun, beg penapis mudah terdedah kepada suhu tinggi, kelembapan tinggi atau gas menghakis, jadi media penapis yang sesuai mesti dipilih berdasarkan sifat gas ekzos.

Precipitator Elektrostatik
- Prinsip: Di bawah tindakan medan elektrik voltan tinggi, gas terion. Zarah debu bercas berhijrah ke arah elektrod bercas bertentangan dan mendapan, dengan itu memisahkan daripada gas. - Aplikasi: Sesuai untuk rawatan gas serombong dalam industri seperti penjanaan kuasa haba dan peleburan keluli, dengan isipadu udara yang tinggi, suhu tinggi (sehingga 350°C), dan kepekatan habuk yang tinggi. Mereka menawarkan kecekapan penulenan yang tinggi (melebihi 99%) dan rintangan yang rendah, tetapi memerlukan pelaburan peralatan yang besar dan ruang lantai, dan sensitif kepada rintangan habuk.

Pengumpul Habuk Basah (seperti menara semburan dan pengumpul habuk Venturi)
- Prinsip: Dengan menyembur cecair (seperti air) ke dalam gas ekzos yang sarat habuk, zarah habuk berlanggar dengan titisan cecair, menyebabkan ia terpeluwap dan membentuk titisan atau buburan yang kemudiannya dinyahcas bersama cecair.
- Aplikasi: Sesuai untuk merawat gas ekzos dengan kelembapan tinggi, suhu tinggi, atau yang mengandungi habuk melekit. Mereka juga boleh menyerap beberapa gas berbahaya (seperti sulfur dioksida). Contohnya termasuk rawatan habuk dalam industri kimia dan penyemburan cat. Walau bagaimanapun, mereka menjana air sisa, memerlukan peralatan rawatan air sisa yang berkaitan, dan kurang berkesan untuk merawat habuk hidrofobik.

Dalam aplikasi sebenar, peranti tunggal atau gabungan peranti (seperti pengumpul habuk beg pengumpul habuk siklon) sering dipilih berdasarkan saiz zarah, kepekatan, sifat (seperti kelikatan, kekakisan) dan isipadu ekzos habuk untuk meningkatkan kecekapan penulenan dan mengurangkan kos.